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Die gängige Anwendung des Laserschneidens auf Solarzellen

2021-02-26 16:11:36


Schneiden und Würfeln:

Die Verwendung eines Lasers zum Beschriften und Schneiden von Siliziumwafern ist derzeit eine relativ fortschrittliche technologische Methode. Sein Prinzip besteht darin, einen Laser als Schneidwerkzeug zu verwenden und auch das Prinzip der Materialvergasung anzuwenden. Das zu verarbeitende Material wird mit einem fokussierten Laserstrahl bestrahlt und anschließend das Werkstück bewegt. Da das Material durch Verdampfung entfernt wird, wird das Werkstück vom Laser entlang der Bewegungsrichtung geschnitten und gewürfelt.


Optische Systemlaserbearbeitung Onsolarzelle

Merkmale des Laserschneidens:

1) Der Laser kann auf einen kleinen Punkt fokussiert werden und sehr dünne Linien zeichnen.

2) Die Schnitttiefe ist 2- bis 3-mal größer und kann gesteuert werden, was die qualifizierte Schnittgeschwindigkeit erheblich verbessert.

3) Berührungslose Verarbeitung, kurze Einwirkzeit und Reichweite des Siliziumwafers, kleine Wärmeeinflusszone und keine Risse aufgrund mechanischer Beanspruchung.

4) Die Würfelgeschwindigkeit ist schnell, was die Produktivität erheblich verbessert, für die automatische Online-Steuerung geeignet ist und die Produktionskosten senkt.

5) Das Beschriften kann auf Halbleiterplatten durchgeführt werden, die mit einer Schutzschicht beschichtet sind.

Wafer schneiden

Das Schneiden von Wafern ist ein kritischerer Prozess bei der Herstellung monokristalliner Siliziumzellen. Die monokristallinen Siliziummaterialien, die in industriell hergestellten Siliziumzellen verwendet werden, sind im Allgemeinen monokristalline Siliziumstäbe. Die ursprüngliche Form ist zylindrisch und muss in quadratische Siliziumwafer geschnitten werden, normalerweise durch Drahtschneiden.


Optische Linse für Onsolarzelle

Was sind die Nachteile des herkömmlichen Drahtschneidens gegenüber dem Laserschneiden?

Im Allgemeinen wird Drahtschneiden verwendet, die Dicke des Siliziumwafers ist groß und die Schnittebenheit ist schlecht. Da Silizium ein sprödes Material ist, kann die Kontaktbearbeitung außerdem sehr leicht Kantenrisse verursachen. Zusätzlich wird es eine mechanische Schadensschicht geben, die aus elastischen Dehnungsbereichen, Versetzungsnetzwerkbereichen und fragmentierten Kristallbereichen auf der Siliziumoberfläche besteht. Die Ausbeute ist gering, der Verlust an Rohstoffen ist groß und es kann sogar zu versteckten Rissen kommen, die die elektrischen Parameter und andere Gefahren beeinflussen.


Bei Verwendung der Laser-Präzisionsschneidetechnologie anstelle des Drahtschneidens sind aufgrund der berührungslosen Verarbeitung keine Spannungen, so dass die Schneidkante flach und dampfig ist, keine Beschädigung, keine Beschädigung der Waferstruktur, elektrische Parameter besser als mechanische Schneidverfahren, die verbessert die Ausbeute. Reduzierte Kosten. Gleichzeitig ermöglichen die Eigenschaften einer kleinen Spaltbreite, einer hohen Präzision und einer einstellbaren Laserleistung auch die Anwendung der Laserpräzisionsschneidetechnologie zur Steuerung der Schnittdicke, wodurch eine Ausdünnung der Solarzellen ermöglicht wird.