Transparentes leitfähiges Filmmaterial ITO
TCO verfügt über eine Vielzahl von Anwendungen, die hauptsächlich in den Bereichen transparenter Elektroden von Flüssigkristallanzeigen, Touchscreens, flexiblen OLED-Bildschirmen, optischen Wellenleiterkomponenten und dünnen Solarzellen verwendet werden.
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Die Anwendung von ITO in verschiedenen Bereichen dreht sich um ihre hervorragenden Eigenschaften von Transparenz und Leitfähigkeit. Die optischen Eigenschaften von ITO-Filmen werden hauptsächlich von zwei Faktoren beeinflusst: der optische Bandlücke und die Plasma-Oszillationsfrequenz. Ersteres bestimmt den spektralen Absorptionsbereich, und letztere bestimmt den spektralen Reflexionsbereich und Intensität. Im Allgemeinen hat ITO eine höhere Absorptionswirkung im Kurzwellenlängenbereich, ein höheres Reflexionsvermögen im Langwellenlängenbereich und höchste Durchlässigkeit im sichtbaren Lichtbereich. Die durchschnittliche Durchlässigkeit in der Wellenlängenbereich von 400-900 nm betragen 100nm ITO als Beispiel in Höhe von 92,8%.
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Die Leistung des ITO-Films wird hauptsächlich durch den Herstellungsverfahren bestimmt, und die Wärmebehandlung wird häufig als Mittel zur Hilfsoptimierung verwendet. Um einen ITO-Film mit guter Leitfähigkeit, hoher Durchlässigkeit und flacher Oberflächenmorphologie zu erhalten, ist es erforderlich, geeignete Abscheidungsmethoden auszuwählen und Prozessparameter zu optimieren. Häufige Beschichtungsverfahren umfassen Elektronenstrahlverdampfung und Magnetron-Sputtern.
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Das Hauptprinzip der Elektronenstrahlverdampfer: In einer Hochvakuumumgebung werden die von der Elektronenpistole emittierten Hochenergie-Elektronen die Oberfläche des ITO-Zielmaterials unter der Wirkung des elektrischen Felds und des Magnetfelds bombardieren, um die kinetische Energie in Wärme umzuwandeln Energie, und das Zielmaterial wird erhitzen und ein geschmolzener Zustand werden oder direkt verdunsten. Der ITO-Film wird auf der Oberfläche des Substrats abgeschieden.
Magnetron-Sputtern gehört zur Kategorie der Glühentladung und verwendet das Prinzip des Kathodensputters zum Beschichten. Die Filmpartikel stammen aus der Kathodenzerstäubungswirkung von Argonionen auf das Kathoden-ITO-Zielmaterial in der Glimmentladung. Nachdem die Argon-Ionen die Zielatome abspucken, werden sie auf der Oberfläche des Substrats abgeschieden, um den erforderlichen ITO-Film zu bilden.