Introducción de 3 tipos de tecnología de limpieza láser
El proceso de limpieza con láser se divide aproximadamente en 4 etapas, a saber, vaporización y descomposición con láser, eliminación con láser, expansión térmica de partículas contaminantes, vibración de la superficie del sustrato y separación de contaminantes. Por supuesto, al aplicar la tecnología de limpieza láser, también debemos prestar atención al umbral de limpieza láser del objeto a limpiar, y elegir la longitud de onda láser adecuada para lograr el mejor efecto de limpieza. La limpieza con láser puede cambiar la estructura del grano y la orientación de la superficie del sustrato sin dañar la superficie del sustrato, y también puede controlar la rugosidad de la superficie del sustrato, mejorando así el rendimiento general de la superficie del sustrato. El efecto de limpieza se ve afectado principalmente por factores como las características del rayo, los parámetros físicos del sustrato y el material de suciedad, y la capacidad de la suciedad para absorber la energía del rayo.
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En la actualidad, la tecnología de limpieza por láser incluye tres métodos de limpieza: tecnología de limpieza por láser en seco, tecnología de limpieza por láser húmedo y tecnología de onda de choque por plasma láser.
1. Limpieza con láser en seco significa que el láser pulsado se irradia directamente para limpiar la pieza de trabajo, de modo que el sustrato o los contaminantes de la superficie absorben energía y la temperatura aumenta, lo que produce una expansión térmica o vibración térmica del sustrato, separando así los dos.
Este método se puede dividir aproximadamente en dos situaciones: una es que los contaminantes de la superficie absorben el láser para expandirse; la otra es que el sustrato absorbe el láser para generar vibración térmica.
2. La limpieza con láser húmedo consiste en recubrir previamente la superficie con una película líquida antes de que el láser pulsado irradie la pieza a lavar. Bajo la acción del láser, la temperatura de la película líquida aumenta rápidamente y se vaporiza. La onda de choque se genera en el momento de la vaporización, que actúa sobre las partículas contaminantes. , Haz que se desprenda del sustrato. Este método requiere que el sustrato y la película líquida no puedan reaccionar, por lo que el alcance de los materiales de aplicación es limitado.
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3. La onda de choque de plasma láser es una onda de choque de plasma esférica generada al descomponer el medio de aire durante la irradiación con láser. La onda de choque actúa sobre la superficie del sustrato a lavar y libera energía para eliminar los contaminantes; el láser no actúa sobre el sustrato, por lo que no daña el sustrato. La tecnología de limpieza por ondas de choque de plasma láser ahora puede limpiar partículas contaminantes con un tamaño de partícula de decenas de nanómetros, y no hay límite para la longitud de onda del láser.
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