레이저 작동 매체 (고체, 가스, 액체, 반도체)의 4 가지 분류
레이저의 시작부터 현재까지 다양한 레이저가 등장했습니다. 레이저는 파장 대역에 따라 가시 광선, 적외선, 자외선, X 선 및 다중 파장 조정 가능으로 나눌 수 있습니다. 현재 적외선 및 자외선 레이저가 업계에서 가장 널리 사용됩니다. 예 : CO2 레이저 10.64um 적외선 레이저 （1064nm 용 F-θ 렌즈), 크립톤 램프 펌핑 YAG 레이저 1.064um 적외선 레이저, 크세논 램프 펌핑 YAG 레이저 1.064um 적외선 레이저, 반도체 측면 펌핑 YAG 레이저 1.064um 적외선 레이저.
그러나 일상 생활에서 우리는 일반적으로 레이저를 생성하는 작동 매체, 즉 레이저의 여기 매체에 따라 레이저를 분류합니다. 지금까지 우리는 주로 레이저를 4 가지 범주로 나누었습니다.
1. 고체 레이저 :
이 유형의 레이저에 사용되는 고형 작업 재료는 금속 이온을 자극 방출과 함께 결정에 혼합하여 만듭니다. 고체 매트릭스에 도핑 된 이들 금속 이온의 주요 특징은 비교적 넓은 유효 흡수 스펙트럼 밴드, 비교적 높은 형광 효율, 비교적 긴 형광 수명 및 비교적 좁은 형광 스펙트럼이므로, 입자 반전을 생성하기 쉽고 자극된다 시작하다.
고체 레이저는 군사, 가공, 의료 및 과학 연구 분야에서 광범위하게 사용됩니다. 범위, 추적, 안내, 드릴링, 절단 및 용접, 반도체 재료 어닐링, 전자 기기 미세 가공, 대기 감지, 분광 연구, 수술 및 안과 수술, 플라즈마 진단, 펄스 홀로그래피 및 레이저 핵융합에 일반적으로 사용됩니다.
2. 가스 레이저 :
가스 레이저는 가스 및 금속 증기를 작업 재료로 사용하여 레이저 장치를 생성합니다. 주요 여기 방법은 전기 여기, 열 여기, 공압 여기, 광학 여기 및 화학적 여기입니다. 그 중에서도 전기 여기 방법이 가장 일반적으로 사용됩니다. 적절한 충돌 조건 하에서, 전자 충돌 여기 및 에너지 전달 여기를 사용하여, 가스 입자는 특정 높은 에너지 수준으로 선택적으로 여기되어, 낮은 에너지 수준으로 입자 수의 반전을 형성하여 방출 전이를 자극한다.
가스 레이저는 간단한 구조, 저렴한 비용, 편리한 작동, 균일 한 작동 매체, 우수한 빔 품질을 가지며 오랫동안 안정적으로 지속적으로 작동 할 수 있습니다. 가장 널리 사용되고 가장 널리 사용되는 레이저이며 시장 점유율은 60 %입니다. He-Ne 레이저가 가장 일반적입니다.
3. 액체 레이저 :
액체 레이저는 염료 레이저라고도합니다.이 유형의 레이저의 활성 물질은 에탄올, 메탄올 또는 물과 같은 액체에 특정 유기 염료를 용해시켜 형성된 용액이기 때문입니다. 레이저 광을 방출하도록 자극하기 위해 일반적으로 고속 플래시 램프가 레이저 소스로 사용되거나 다른 레이저는 매우 짧은 광 펄스를 방출합니다.
지속적으로 조정 가능한 레이저 파장은 염료 레이저의 가장 중요한 출력 특성입니다. 이 장치는 구조가 간단하고 가격이 저렴합니다. 염료 용액의 안정성은 비교적 열악하며, 이는 이러한 장치의 결함이다. 염료 레이저는 주로 레이저 스펙트럼 광, 광화학, 동위 원소 분리, 광 생물학 등과 같은 과학 연구, 의학 및 기타 분야에서 사용됩니다.
4. 반도체 레이저 :
레이저 다이오드라고도하는 반도체 레이저는 반도체 물질을 작동 물질로 사용하는 레이저입니다. 재료 구조의 차이로 인해 다른 유형의 레이저를 생성하는 특정 프로세스는 상대적으로 특별합니다.
레이저 여기 방법에는 전기 주입, 전자 빔 여기 및 광학 펌핑의 세 가지 유형이 있습니다. 반도체 레이저 장치는 동종 접합, 단일 이종 접합 및 이중 이종 접합으로 나눌 수 있습니다. 동종 접합 레이저 및 단일 이종 접합 레이저는 대부분 실온에서 펄스 장치이며, 이중 이종 접합 레이저는 실온에서 연속 작동을 달성 할 수 있습니다.
레이저 ˈlāzər