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Material de película conductora transparente ITO

2021-03-06 18:56:06

TCO tiene una amplia gama de aplicaciones, utilizada principalmente en los campos de los electrodos transparentes de pantallas de cristal líquido, pantallas táctiles, pantallas de OLED flexibles, componentes ópticos de guía de onda y células solares de película delgada.




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La aplicación de ITO en varios campos gira en torno a sus excelentes propiedades de transparencia y conductividad. Las propiedades ópticas de las películas de ITO se ven principalmente afectadas por dos factores: la brecha de la banda óptica y la frecuencia de oscilación de plasma. El primero determina el rango de absorción espectral, y este último determina el rango de reflexión y la intensidad espectrales. En general, ITO tiene una mayor absoracidad en la región de longitud de onda corta, una mayor reflectividad en el rango de longitud de onda larga, y la mayor transmitancia en el rango de luz visible. Tomando 100nm ITO como ejemplo, la transmitancia promedio en el rango de longitud de onda de 400-900nm es tan alta como el 92.8%.




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El rendimiento de la película ITO se determina principalmente por el proceso de preparación, y el tratamiento térmico a menudo se utiliza como un medio de optimización auxiliar. Para obtener una película de ITO con buena conductividad, alta transmitancia y morfología de superficie plana, es necesario seleccionar los métodos de deposición apropiados y optimizar los parámetros del proceso. Los métodos de recubrimiento comunes incluyen la evaporación del haz de electrones y la pulverización del magnetrón.




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El principio principal de la evaporación del haz de electrones: en un entorno de alto vacío, los electrones de alta energía emitidos por la pistola de electrones bombardearán la superficie del material objetivo de ITO bajo la acción del campo eléctrico y el campo magnético para convertir la energía cinética en calor. La energía, y el material objetivo se calentará y se convertirá en un estado fundido o se evapore directamente. La película de ITO se deposita en la superficie del sustrato.

La pulverización magnetrona pertenece a la categoría de descarga de resplandor y utiliza el principio de la pulverización del cátodo para el recubrimiento. Las partículas de película se originan en el efecto de la pulverización del cátodo de los iones de argón en el material objetivo del ito del cátodo en la descarga del resplandor. Después de que los iones de argón esculpan los átomos de destino, se depositan en la superficie del sustrato para formar la película de ITO requerida.