Introduzione di 3 tipi di tecnologia di pulizia laser
Il processo di pulizia laser è approssimativamente suddiviso in 4 fasi, vale a dire, vaporizzazione e decomposizione laser, strippaggio laser, espansione termica delle particelle inquinanti, vibrazione della superficie del substrato e separazione degli inquinanti. Ovviamente, quando si applica la tecnologia di pulizia laser, è necessario prestare attenzione anche alla soglia di pulizia laser dell'oggetto da pulire e scegliere la lunghezza d'onda laser appropriata per ottenere il miglior effetto di pulizia. La pulizia laser può modificare la struttura dei grani e l'orientamento della superficie del substrato senza danneggiare la superficie del substrato e può anche controllare la rugosità superficiale del substrato, migliorando così le prestazioni complessive della superficie del substrato. L'effetto pulente è influenzato principalmente da fattori quali le caratteristiche della trave, i parametri fisici del supporto e del materiale di sporco e la capacità dello sporco di assorbire l'energia del raggio.
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Al momento, la tecnologia di pulizia laser include tre metodi di pulizia: tecnologia di pulizia laser a secco, tecnologia di pulizia laser a umido e tecnologia a onde d'urto al plasma laser.
1. La pulizia laser a secco significa che il laser pulsato viene irradiato direttamente per pulire il pezzo in lavorazione, in modo che il substrato o gli agenti contaminanti della superficie assorbano energia e la temperatura aumenti, con conseguente espansione termica o vibrazione termica del substrato, separando così i due.
Questo metodo può essere approssimativamente suddiviso in due situazioni: una è che i contaminanti superficiali assorbono il laser per espandersi; l'altro è che il substrato assorbe il laser per generare vibrazioni termiche.
2. La pulizia laser a umido consiste nel pre-rivestire una pellicola liquida sulla superficie prima che il laser pulsato irradi il pezzo da lavare. Sotto l'azione del laser, la temperatura del film liquido aumenta rapidamente e vaporizza. L'onda d'urto si genera al momento della vaporizzazione, che agisce sulle particelle inquinanti. , Fallo cadere dal substrato. Questo metodo richiede che il substrato e il film liquido non possano reagire, quindi l'ambito dei materiali di applicazione è limitato.
3. L'onda d'urto al plasma laser è un'onda d'urto al plasma sferica generata dalla scomposizione del mezzo d'aria durante l'irradiazione laser. L'onda d'urto agisce sulla superficie del supporto da lavare e rilascia energia per rimuovere gli inquinanti; il laser non agisce sul supporto, quindi non danneggia il supporto. La tecnologia di pulizia con onde d'urto al plasma laser può ora pulire i contaminanti delle particelle con una dimensione delle particelle di decine di nanometri e non ci sono limiti alla lunghezza d'onda del laser.
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