Introdução de 3 tipos de tecnologia de limpeza a laser
O processo de limpeza a laser é dividido em 4 etapas, a saber, vaporização e decomposição a laser, decapagem a laser, expansão térmica de partículas poluentes, vibração da superfície do substrato e separação de poluentes. Obviamente, ao aplicar a tecnologia de limpeza a laser, devemos também prestar atenção ao limite de limpeza a laser do objeto a ser limpo e escolher o comprimento de onda do laser apropriado para obter o melhor efeito de limpeza. A limpeza a laser pode alterar a estrutura do grão e a orientação da superfície do substrato sem danificar a superfície do substrato e também pode controlar a rugosidade da superfície do substrato, melhorando assim o desempenho geral da superfície do substrato. O efeito de limpeza é afetado principalmente por fatores como as características da viga, os parâmetros físicos do substrato e do material de sujeira, e a capacidade da sujeira de absorver a energia da viga.
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Atualmente, a tecnologia de limpeza a laser inclui três métodos de limpeza: tecnologia de limpeza a laser a seco, tecnologia de limpeza a laser úmida e tecnologia de onda de choque de plasma a laser.
1. Limpeza a laser a seco significa que o laser pulsado é irradiado diretamente para limpar a peça de trabalho, de modo que o substrato ou contaminantes da superfície absorvem energia e a temperatura aumenta, resultando em expansão térmica ou vibração térmica do substrato, separando assim os dois.
Este método pode ser dividido em duas situações: uma é que os contaminantes da superfície absorvem o laser para se expandir; a outra é que o substrato absorve o laser para gerar vibração térmica.
2. A limpeza a laser úmida consiste em pré-revestir um filme líquido na superfície antes que o laser pulsado irradie a peça de trabalho a ser lavada. Sob a ação do laser, a temperatura do filme líquido aumenta rapidamente e se vaporiza. A onda de choque é gerada no momento da vaporização, que atua sobre as partículas poluentes. , Faça-o cair do substrato. Este método requer que o substrato e o filme líquido não possam reagir, então o escopo dos materiais de aplicação é limitado.
3. A onda de choque de plasma a laser é uma onda de choque de plasma esférico gerada pela quebra do meio de ar durante a irradiação do laser. A onda de choque atua na superfície do substrato a ser lavado e libera energia para remoção dos poluentes; o laser não atua no substrato, portanto, não causa danos ao substrato. A tecnologia de limpeza de onda de choque de plasma a laser agora pode limpar contaminantes de partículas com um tamanho de partícula de dezenas de nanômetros, e não há limite para o comprimento de onda do laser.
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