Внедрение 3-х видов технологии лазерной очистки
Процесс лазерной очистки условно разделен на 4 этапа, а именно: лазерное испарение и разложение, лазерная очистка, тепловое расширение частиц загрязняющих веществ, вибрация поверхности подложки и отделение загрязняющих веществ. Конечно, при применении технологии лазерной очистки мы также должны обращать внимание на порог лазерной очистки очищаемого объекта и выбирать соответствующую длину волны лазера для достижения наилучшего эффекта очистки. Лазерная очистка может изменить структуру зерен и ориентацию поверхности подложки, не повреждая поверхность подложки, а также может контролировать шероховатость поверхности подложки, тем самым улучшая общие характеристики поверхности подложки. На эффект очистки в основном влияют такие факторы, как характеристики луча, физические параметры подложки и материала грязи, а также способность грязи поглощать энергию луча.
оборудование для лазерной очистки на заводе по продаже
В настоящее время технология лазерной очистки включает три метода очистки: технологию сухой лазерной очистки, технологию влажной лазерной очистки и технологию ударно-волновой лазерной плазмы.
1. Сухая лазерная очистка означает, что импульсный лазер напрямую облучается для очистки заготовки, так что субстрат или поверхностные загрязнения поглощают энергию, и температура повышается, что приводит к тепловому расширению или тепловой вибрации подложки, тем самым разделяя их.
Этот метод можно условно разделить на две ситуации: первая заключается в том, что поверхностные загрязнения поглощают лазер для расширения; во-вторых, подложка поглощает лазер, вызывая тепловую вибрацию.
2. Влажная лазерная очистка заключается в предварительном нанесении жидкой пленки на поверхность перед тем, как импульсный лазер облучает обрабатываемую деталь, которую нужно мыть. Под действием лазера температура жидкой пленки быстро повышается и испаряется. В момент испарения возникает ударная волна, которая воздействует на частицы загрязняющего вещества. , Сделайте так, чтобы он упал с субстрата. Этот метод требует, чтобы субстрат и жидкая пленка не могли вступить в реакцию, поэтому область применения материалов ограничена.
3. Ударная волна лазерной плазмы представляет собой плазменную ударную волну сферической формы, создаваемую разрушением воздушной среды во время лазерного воздействия. Ударная волна действует на поверхность промываемого субстрата и выделяет энергию для удаления загрязняющих веществ; лазер не действует на подложку, поэтому не вызывает ее повреждения. Технология очистки ударными волнами лазерной плазмы теперь может очищать частицы загрязняющих веществ с размером частиц в десятки нанометров, и длина волны лазера не ограничена.
Линзы оптики для производителей лазерных чистящих пистолетов
Carmanhaas может предложить комплексную лазерную очистку оптических линз и системные решения. Мы специализируемся на высококачественных промышленных лазерных приложениях, включая модуль QBH, сканер Galvo, линзы F-theta Scan и систему управления. Часто используемые оптические решения: лазерный луч сканирует рабочую поверхность через систему гальванометра и сканирующую линзу, чтобы очистить всю рабочую поверхность. Широко используемые для очистки металлических поверхностей, специальные лазерные источники энергии также могут применяться для очистки неметаллических поверхностей.