3 가지 레이저 클리닝 기술 도입
레이저 세정 공정은 크게 레이저 기화 및 분해, 레이저 스트리핑, 오염 물질 입자의 열 팽창, 기판 표면 진동 및 오염 물질 분리의 4 단계로 나뉩니다. 물론, 레이저 클리닝 기술을 적용 할 때 우리는 또한 청소할 물체의 레이저 클리닝 임계 값에주의를 기울이고 최상의 클리닝 효과를 얻기 위해 적절한 레이저 파장을 선택해야합니다. 레이저 세정은 기판 표면을 손상시키지 않고 기판 표면의 입자 구조와 방향을 변경할 수 있으며 기판의 표면 거칠기를 제어하여 기판 표면의 전반적인 성능을 향상시킬 수 있습니다. 청소 효과는 주로 빔의 특성, 기판 및 먼지 물질의 물리적 매개 변수, 먼지가 빔 에너지를 흡수하는 능력과 같은 요인의 영향을받습니다.
현재 레이저 클리닝 기술에는 건식 레이저 클리닝 기술, 습식 레이저 클리닝 기술 및 레이저 플라즈마 충격파 기술의 세 가지 청소 방법이 있습니다.
1. 건식 레이저 클리닝은 펄스 레이저를 직접 조사하여 공작물을 청소하여 기판 또는 표면 오염 물질이 에너지를 흡수하고 온도가 상승하여 기판의 열팽창 또는 열 진동을 일으켜 둘을 분리하는 것을 의미합니다.
이 방법은 크게 두 가지 상황으로 나눌 수 있습니다. 하나는 표면 오염 물질이 레이저를 흡수하여 팽창하는 것입니다. 다른 하나는 기판이 레이저를 흡수하여 열 진동을 생성한다는 것입니다.
2. 습식 레이저 클리닝은 펄스 레이저가 세척 할 공작물을 조사하기 전에 표면에 액체 필름을 미리 코팅하는 것입니다. 레이저의 작용으로 액체 필름의 온도가 빠르게 상승하고 증발합니다. 충격파는 기화 순간에 생성되어 오염 입자에 작용합니다. , 기판에서 떨어지도록하십시오. 이 방법은 기판과 액막이 반응 할 수 없어야하므로 응용 재료의 범위가 제한됩니다.
3. 레이저 플라즈마 충격파는 레이저 조사 중에 공기 매체를 분해하여 생성되는 구형 플라즈마 충격파입니다. 충격파는 세척 할 기판 표면에 작용하고 에너지를 방출하여 오염 물질을 제거합니다. 레이저는 기판에 작용하지 않으므로 기판에 손상을주지 않습니다. 레이저 플라즈마 충격파 세척 기술은 이제 수십 나노 미터 크기의 입자 오염 물질을 세척 할 수 있으며 레이저 파장에 제한이 없습니다.
Carmanhaas는 완벽한 레이저 클리닝 광학 렌즈 및 시스템 솔루션을 제공 할 수 있습니다. 우리는 QBH 모듈, Galvo 스캐너, F-theta 스캔 렌즈 및 제어 시스템을 포함한 고급 산업용 레이저 응용 제품에 초점을 맞추고 있습니다. 일반적으로 사용되는 광학 솔루션 : 레이저 빔은 검류계 시스템과 스캔 렌즈를 통해 작업 표면을 스캔하여 전체 작업 표면을 청소합니다. 금속 표면 세척에 널리 사용되는 특수 에너지 레이저 소스는 비금속 표면 세척에도 적용될 수 있습니다.