Sự khác biệt giữa lớp phủ quang học và lớp phủ chân không là gì?
Chênh lệch khái niệm
1. Lớp phủ quang học đề cập đến quá trình phủ một lớp (hoặc nhiều lớp) màng kim loại (hoặc trung bình) trên bề mặt của các bộ phận quang học. Mục đích của lớp phủ bề mặt của các bộ phận quang học là giảm hoặc tăng phản xạ ánh sáng, tách chùm tia, tách màu, lọc ánh sáng, phân cực và các yêu cầu khác. Các phương pháp phủ thường được sử dụng bao gồm lớp phủ chân không (một loại sơn vật lý) và lớp phủ hóa học.
2. Lớp phủ chân không đề cập đến một phương pháp sưởi ấm kim loại bai hoặc vật liệu phi kim thuộc trong điều kiện chân không cao để bay hơi và ngưng tụ trên bề mặt của bộ phận mạ (kim loại, bán dẫn hoặc cách điện) để tạo thành một màng mỏng. Ví dụ, mạ nhôm chân không, mạ Chrome chân không, v.v.
Ống kính quang học cho nhà cung cấp laser sợi
Sự khác biệt giữa các phương pháp và vật liệu
1. Vật liệu sơn quang:
(1) Magiê Fluoride: Bột tinh thể tetragonal không màu với độ tinh khiết cao. Sử dụng nó để chuẩn bị các lớp phủ quang có thể tăng độ truyền qua mà không bị vỡ điểm.
(2) Silica: Pha lê trong suốt không màu, điểm nóng chảy cao, độ cứng cao và độ ổn định hóa học tốt. Độ tinh khiết cao, và lớp phủ SIO2 chất lượng cao được chuẩn bị với nó, và trạng thái bay hơi là tốt, và không có điểm sụp đổ. Theo yêu cầu sử dụng, nó có thể được chia thành tia cực tím, hồng ngoại và ánh sáng nhìn thấy được.
(3) Zirconia: Trạng thái tinh thể nặng trắng, với chỉ số khúc xạ cao và khả năng chịu nhiệt độ cao, tính chất hóa học ổn định và độ tinh khiết cao. Nó có thể được sử dụng để chuẩn bị lớp phủ zirconia chất lượng cao mà không bị sập.
Phụ tùng laser Trung Quốc nhà sản xuất
2. Vật liệu cho phương pháp sơn chân không:
(1) Sự bay hơi chân không: Chất nền được phủ được làm sạch và đặt trong buồng phủ. Sau khi sơ tán, vật liệu màng được làm nóng đến nhiệt độ cao, do đó hơi đạt khoảng 13,3pa và các phân tử hơi bay lên bề mặt của chất nền và ngưng tụ vào một bộ phim.
(2) Mạ phú cò: Đặt chất nền để được phủ ở phía đối diện của cực âm, vượt qua khí trơ (như argon) vào phòng sơ tán, duy trì áp suất khoảng 1,33 ~ 13.3pa, sau đó kết nối cực âm với một nguồn cung cấp năng lượng DC 2000V. Sự phóng điện phát sáng rất phấn khích và các ion argon tích điện tích cực tấn công cực âm để đẩy các nguyên tử và các nguyên tử phun ra được lắng đọng trên đế thông qua bầu không khí trơ để tạo thành một bộ phim.
(3) lắng đọng hơi hóa chất: quá trình lấy màng mỏng lắng đọng bằng cách phân hủy nhiệt các hợp chất kim loại được lựa chọn hoặc hợp chất hữu cơ.
(4) Mạ ion: Về bản chất, sự kết hợp hữu cơ của sự bay hơi chân không và phún xạ của hệ thống mạ ion có các đặc điểm công nghệ của cả hai.